瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus

ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus

用于分散和濕磨的高效攪拌式珠磨機(jī). 應(yīng) 用 攪拌式珠磨機(jī)用于持續(xù)分散和濕磨由低到高粘度的泵送材料。WAB-ECM戴諾磨在循環(huán)式工藝下可獲得很高的產(chǎn)量，同樣，它在通道式工藝下表現(xiàn)也很成功。 WAB - ECM 戴諾磨可用于不同工業(yè)中的分散和研磨： 油漆和油墨 顏料和染料 填料和涂料 農(nóng)藥     原 理 在 ECM 戴諾磨中，研磨珠通過(guò)**的戴諾加速器加速。獨(dú)特的構(gòu)造使得內(nèi)部研磨珠的循環(huán)得到加強(qiáng)，這樣就保證了一個(gè)較窄的保壓范圍且結(jié)合了*高的能量密度。戴諾加速器使研磨珠循環(huán)得到的加強(qiáng)在密度和速度上都比材料流動(dòng)至研磨機(jī)出口方向上對(duì)研磨珠所產(chǎn)生的影響大得多。   研磨珠的分離 研磨珠通過(guò)抗磨損的篩網(wǎng)保留在研磨機(jī)中，特殊的戴諾加速器和在篩網(wǎng)附近的機(jī)器部件都設(shè)計(jì)用于減輕研磨珠對(duì)篩網(wǎng)系統(tǒng)的磨損?？稍诓挥貌痖_(kāi)研磨缸的條件下更換篩網(wǎng)筒?？墒褂酶鞣N材料制成的研磨珠     材 料 易損件可由不同的材料制成如不銹鋼、加硬鋼和陶瓷。特別選擇的陶瓷材料 (e.g. SiSiC) 具有一個(gè)優(yōu)化的散熱能力和*佳的冷卻能力。     軸密封 容易更換的雙機(jī)密封，帶壓力清洗單元。清洗液壓力通過(guò)閥門(mén)來(lái)調(diào)節(jié)，冷卻壓力清洗罐由不銹鋼制成。     維 護(hù) 研磨缸移動(dòng)裝置和研磨珠接收器可在*佳的工作高度幫助客戶迅速和容易的維護(hù)機(jī)器，縮短了停機(jī)時(shí)間。     控制元件 對(duì)于機(jī)械系統(tǒng)控制，控制面板帶按鈕和信號(hào)燈或含數(shù)字指示器的頁(yè)碼鍵盤(pán)。     **裝置 進(jìn)口處裝有接觸式壓力計(jì)，出口處裝有接觸式溫度計(jì)，鄰近感應(yīng)開(kāi)關(guān)防止在沒(méi)有安裝研磨缸或前蓋的情況下將機(jī)器開(kāi)動(dòng)。鄰近電容開(kāi)關(guān)用于監(jiān)察機(jī)械密封中的清洗液液面，接觸式壓力計(jì)用于監(jiān)察軸密封的壓力。     WAB - ECM 的優(yōu)點(diǎn) －*高流量 －*高產(chǎn)量 －*佳能量利用率 －研磨缸較小 －適合于循環(huán)式和通道式工藝 －容易清洗 －容易操作 －更換篩網(wǎng)無(wú)須打開(kāi)研磨缸 ECM 戴諾磨只能用于持續(xù)分散和研磨液相中的固體。在壓力、溫度和研磨作用的影響下，不能出現(xiàn)不可控制的反應(yīng)。材料在研磨機(jī)中處理后，必須保持可流動(dòng)性。 產(chǎn)量取決于被處理的材料及所需的研磨質(zhì)量。所標(biāo)志的產(chǎn)量為一平均值，實(shí)際產(chǎn)量可能會(huì)稍低或稍高。戴諾磨具有不同的設(shè)計(jì)和型號(hào)。     技術(shù)參數(shù)   ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 研磨缸 1.5 升 8.2 升 18.2 升 23.3 升 主馬達(dá) 6.8-7.5 kW 22-30 kW 36-45 kW 36-45 kW 研磨珠尺寸 0.3-2 mm 0.3-2 mm 0.3-2 mm 0.3-2 mm 研磨珠數(shù)量 0.9-1.1 升 4.1-5.3 升 9-12 升 11.7-15.1 升 產(chǎn)量 40-80 kg/h 100-1000 kg/h 400-2000 kg/h 400-2500 kg/h 重量 360-380 kg 700-900 kg 1900-2000 kg 1900-2000 kg 尺寸 (mm) 1372 × 830 × 710 1390 × 800 × 1680 1795 × 1016 × 1989 1903 × 1016 × 1989   溫度和壓力限制     ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 研磨缸溫度 *大 85oC *大 85oC *大 85oC *大 85oC 研磨缸壓力 *大 4 bar *大 4 bar *大 4 bar *大 4 bar 冷卻系統(tǒng)壓力 *大 6 bar *大 6 bar *大 6 bar *大 6 bar 冷卻水流量 800 升 / 小時(shí) 2000 升 / 小時(shí) 2000 升 / 小時(shí) 2000 升 / 小時(shí)   接 口   ECM-Pilot ECM-Poly ECM Pro ECM Plus 材料進(jìn)出口 Ø 25.4 mm G1" G1" G1" 冷卻水 Ø 13 mm Ø 17 mm Ø 17 mm Ø 17 mm 軸密封冷卻 Ø 10 mm Ø 10 mm Ø 10 mm Ø 10 mm   圖 片   ECM-Pilot   ECM Poly   ECM Pro   ECM Plus   戴諾加速器可獲得*高的能量密度，通過(guò)SSP反饋孔可獲得更高流量。 ECM Poly / Pro / Plus的新型篩網(wǎng)分離系統(tǒng)，設(shè)計(jì)上采用篩網(wǎng)筒，確保了較長(zhǎng)的操作時(shí)間。 為方便維護(hù)，研磨缸可通過(guò)移動(dòng)裝置得到延展。 ECM-Pilot用于小批量、研究和開(kāi)發(fā)。 帶控制系統(tǒng)的ECM Poly 外形。